口舌之争带崩一个板块？光刻胶真的“很难”吗

近日，光刻胶话题持续火热，二级市场受到较大影响。8月2日开盘，多家涉及光刻胶的上市公司股票出现下跌，其中江化微、容大感光、南大光电等股票一度跌超5%，半导体及元件概念股整体走弱，多只股票呈现绿色。尽管有部分个股有所反弹，但整体收跌居多。

消息面上，近期某卖方机构电子行业首席与技术人员在国产光刻胶技术水平问题上发生了一场争议。这一事件被看作是半导体市场走势波动的诱因之一。事实上，光刻胶作为半导体、面板等产业的关键原材料，其技术难度主要体现在配方、专利以及量产能力等方面。实现光刻胶自主可控并非一朝一夕之功，需要整个产业链的协同合作。一位华东地区的晶圆厂员工透露，“虽然一直在扶持，但难度很大。目前来说，用于成熟工艺的国产光刻胶还是取得了一定的进展。”他还表示，“现在是好时机，有很多进产线验证的机会。”

在一个名为“半导体行业交流”的微信群中，关于国产光刻胶实力的话题也曾引发过激烈的讨论。虽然中芯国际方面对此事件没有发表评论，但据记者了解，该群因热议此事而最终解散。对于业界人士来说，这其实只是正常的讨论和争论。

光刻胶，又被称为“光致抗蚀剂”，在微细加工技术中扮演着关键角色。在集成电路制造行业，主要使用的是高端光刻胶，如KrF光刻胶和ArF光刻胶。这些高端光刻胶被广泛应用于高端芯片制造中，如逻辑芯片、5G芯片和云计算芯片等。国内的高端光刻胶市场几乎全部依赖进口。目前，国内适用于8英寸硅片的KrF光刻胶的自给率不足5%，适用于12英寸硅片的ArF光刻胶更是基本依赖进口。国内厂商正在积极研发布局这些高端产品。比如苏州瑞红的高端KrF光刻胶已经完成中试示范线建设，南大光电的ArF光刻胶也通过了客户认证等。尽管光刻胶的原理是相通的，但其难点在于基础工业的能力以及经验性的配方等要素。“这里面有很多经验性的东西，”一位负责半导体项目投资的人士表示，“知识产权壁垒都不是最重要的。”这意味着实现光刻胶的自主可控还需要时间和努力，需要在产业链协同的基础上不断进行研发和创新。