光刻胶国产化空间大 光刻胶相关上市公司有哪些

财政部等四部门发布了《关于促进集成电路产业和软件产业高质量发展企业所得税政策的公告》，以鼓励集成电路产业的发展。对于线宽小于28纳米（含）的集成电路生产项目，且经营期在15年以上的企业，其第一年至第十年可享受免征企业所得税的优惠政策。而线宽小于65纳米（含）的集成电路生产企业，则可以享受“五免五减半”的所得税优惠。

这一政策明显向更先进的制程技术倾斜，反映出国家对于集成电路产业发展的高度重视。华泰证券的分析师胡剑指出，光刻胶作为半导体光刻工艺的核心材料，其重要性不言而喻。长期以来，由于技术壁垒和客户壁垒的双重作用，光刻胶市场被美日公司所垄断。

随着本土半导体产能的持续扩大和集成电路大基金的支持，国产光刻胶正在迎来重大发展机遇。在此背景下，一些上市公司已经取得了显著的进展。

南大光电最近公告，其自主研发的ArF光刻胶产品成功通过了客户使用认证，这是国内首个通过产品验证的ArF光刻胶，标志着国内光刻胶技术的重大突破。

雅克科技也在高解析度光刻胶、透明光刻胶、CMOS光刻胶等领域与下游特定客户进行联合研发，不断推动国产光刻胶技术的进步。

晶瑞股份的i线光刻胶已经成功供应国内头部芯片公司，其高端KrF（248）光刻胶更是已经进入中试阶段，这意味着国产光刻胶在高端领域也已经开始迈出坚实的步伐。

这一系列的进展，无疑为国产光刻胶产业带来了巨大的发展机遇，也标志着中国在集成电路产业领域的不断崛起。随着政策的持续支持和技术的不断进步，国产光刻胶产业必将迎来更加广阔的发展前景。