EUV关键技术有重磅突破 相关上市公司有哪些？

在全球半导体制造领域，台积电再次展现了其卓越的技术实力和创新精神。作为全球一号代工厂，台积电宣布了在极紫外光刻（EUV）技术方面取得了两项重大进展。首先是完成了使用先进的7nm EUV工艺为客户芯片的流片工作，这一成果标志着新工艺技术的可靠性和成熟性，为后续的大规模生产奠定了坚实的基础。

据台积电透露，与传统的7nm DUV技术相比，新型的7nm EUV工艺在晶体管密度方面提升了20%，并且在同等频率下能够实现功耗降低6-12%。这意味着未来的芯片性能将更强，同时能够更加高效地利用能源，为全球电子设备带来更高的性能和更长的使用寿命。

而另一项重大突破则是台积电即将在2019年4月开始试产的5nm工艺。作为全球半导体行业的重要里程碑之一，这一新工艺将进一步提高芯片的性能和集成度，为未来的智能设备提供更多可能性。而此次试产的成功，也标志着台积电在技术方面的持续领先和创新力。

作为下一代光刻主流技术，EUV技术在大规模制造半导体时能够有效减少成本和工艺复杂程度。EUV技术被业界视为破解摩尔定律遇到阻碍的核心设备。随着半导体厂商积极导入EUV设备，预计在未来几年内，EUV设备市场将迎来快速增长。据业内预测，行业龙头ASML在2018年的EUV设备销售增长将达到惊人的30%，销售数量达到25台。这也意味着整个产业链将迎来新的发展机遇。

随着EUV技术的广泛应用，真空装置和清洗工艺等需求将呈现明显的增长趋势。而在国内市场上，汉钟精机公司和至纯科技公司等上市公司有望受益于这一趋势。汉钟精机公司作为国内真空设备龙头公司，至纯科技公司在半导体清洗设备工艺方面的领先地位都将使其在产业链中占据重要的位置。未来随着市场需求的增长，这些公司的业绩有望得到进一步提升。